光刻机NA指的是数值孔径。

在光学和芯片制造领域，NA是物镜和聚光器的主要参数，一般光刻机设备都会明确标注该指标的数值。在光源波长不变的情况下，NA的大小直接决定和光刻机的实际分辨率，也等于决定了光刻机能够达到的最高的工艺节点。

High-

NAEUV是指下一代光刻设备，与现有的EUV光刻设备相比，可以雕刻出更精细的电路，其被认为是一个改变游戏规则的设备，将决定3纳米以下代工市场技术竞赛的赢家。